onsemi GaNEXUS™ GaN-FETs
Die GaNEXUS™ Galliumnitrid-Feldeffekttransistoren (GaN FETs) von onsemi nutzen die Wide-Bandgap-Materialeigenschaften von GaN, um schnelles Schalten, niedrige Gate- und Ausgangsladung und einen verbesserten Wirkungsgrad im Vergleich zu Silizium-Leistungstransistoren zu erzielen. Diese Eigenschaften ermöglichen höhere Betriebsfrequenzen, eine erhöhte Leistungsdichte und eine reduzierte Magnetik in Leistungsumwandlungs-Applikationen im Nieder-, Mittel-, Hoch- und Höchstspannungsbereich. Die diskreten Enhancement-Mode-GaN-Transistoren (High-Electron-Mobility Transistors, HEMTs) bieten einen Spannungsbereich von 40 V bis 650 V, einschließlich 650-V-GaNEXUS-Smart-GaN-FETs mit integrierten Schutzfunktionen zur Verbesserung der Zuverlässigkeit und Vereinfachung der Systemintegration. Ideale Applikationen für die GaNEXUS-Produktfamilie von onsemi sind Industrieautomatisierung, Robotik, KI-Rechenzentren, Fahrzeugelektrifizierung und Energieinfrastruktur.Merkmale
- Schnelles Schalten, eine niedrige Gate- und Ausgangsladung sowie eine überlegene Effizienz im Vergleich zu Silizium-Leistungstransistoren
- Geringere Schaltverluste
- Höhere Leistungsdichte für kleinere Magnetik, kompakte Designs und höhere Integration
- Verbessertes thermisches Betriebsverhalten
- Spannungsbereich von 40 V bis 650 V und 650 V
- Integrierte Schutzfunktionen
- Die Hochfrequenzleistung ermöglicht ein schnelleres Schalten in fortschrittlichen Leistungswandlungsstufen
- Thermisch optimierte Gehäuse
- Branchenübliche Footprints für die Dual Sourcing
- Für einsatzbereite Systeme konzipiert
Applikationen
- Elektrifizierung von Fahrzeugen
- Industrieautomatisierung
- KI-Rechenzentrum und Cloud-Infrastruktur
- Physikalische KI, Robotik und industrielle Leistung
- Energieinfrastruktur
Videos
GaN-Leistungsumwandlungs-Architektur
Weitere Ressourcen
Veröffentlichungsdatum: 2026-06-17
| Aktualisiert: 2026-08-19
